波长为193nm（纳米）、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前，工信部的一份文件，再次把国产光刻机推入公众视野，甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。 9月9日，…
阅读全文中国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么?
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国产套刻8nm光刻机引争议 中国追赶对象真是ASML吗
文 | 孙永杰 日前，工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下简称“目录”）中显示，中国已攻克氟化氩光刻机，其中该目录中，公开可见的与光刻机代际…
阅读全文全新国产DUV光刻机曝光:“套刻≤8nm”是什么水平
这两天不少网友都在热议工信部披露的新款国产氟化氩光刻机光刻机的消息，一时间，各种关于国产光刻机大突破言论满天飞，甚至还有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑…
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